Comercio internacional · 20/1/1994Actualizado: 15/10/2026 · 1 min de lectura
Radcal Corp., Otorgamiento Potencial de Licencia de Patente Exclusiva
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Resumen
La Oficina Nacional de Estándares y Tecnología (NIST), Departamento de Comercio de los EE. UU., está considerando otorgar una licencia exclusiva en los Estados Unidos para practicar la invención contenida en la solicitud de patente U.S. 08/021,232, titulado "Método y Aparato para Medir Precisamente Voltajes Aplicados a Fuentes de Rayos X", a Radcal Corporation, con sede en Monrovia, California.
Idioma original de la fuente: Federal Register — Department of CommerceAbrir el comunicado original →